| 发明名称 | 一种基于金属氧化物的薄膜晶体管及其制备方法和应用 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种基于金属氧化物的薄膜晶体管及其制备方法和应用，包括以下步骤：(1)制作缓冲层；(2)在上述缓冲层上沉积栅极金属层；(3)使用阳极氧化的方法，在栅极金属层上制备栅绝缘层，其中栅极金属层中不需要沉积氧化膜的部分使用光刻胶进行保护；(4)将光刻胶去除；(5)将不需要的金属引线去除；(6)在栅绝缘层制备有源层；(7)根据所设计的薄膜晶体管结构，沉积并图形化源漏电极、像素电极和保护层或刻蚀阻挡层。该发明采用纯Al或Al合金作为栅极金属，使用阳极氧化的方法制备栅绝缘层。通过调整栅极金属成分，能改变栅绝缘层的性能，进而改善薄膜晶体管的电学特性。 | ||
| 申请公布号 | CN102522429A | 申请公布日期 | 2012.06.27 |
| 申请号 | CN201110451514.5 | 申请日期 | 2011.12.28 |
| 申请人 | 华南理工大学;广州新视界光电科技有限公司 | 发明人 | 徐苗;罗东向;邹建华;陶洪;兰林锋;王磊;彭俊彪 |
| 分类号 | H01L29/786(2006.01)I;H01L21/441(2006.01)I;H01L21/445(2006.01)I | 主分类号 | H01L29/786(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人 | 宫爱鹏 |
| 主权项 | 一种基于金属氧化物的薄膜晶体管的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)在透明衬底上沉积SiO2或SiNx作为缓冲层；(2)在上述缓冲层上沉积金属单质或金属合金单层薄膜，并且图形化形成栅极金属层；(3)使用阳极氧化的方法，在栅极金属层上制备一层绝缘膜作为栅绝缘层，其中栅极金属层中不需要沉积氧化膜的部分使用光刻胶进行保护；(4)阳极氧化完毕后将光刻胶去除；(5)使用刻蚀方法将薄膜晶体管中不需要的金属引线去除；(6)在栅绝缘层上采用物理气相沉积制备金属氧化物薄膜，并将金属氧化物薄膜图形化，作为薄膜晶体管的有源层；(7)根据所设计的薄膜晶体管结构，沉积并图形化源漏电极、像素电极和保护层或刻蚀阻挡层。 | ||
| 地址 | 510640 广东省广州市天河区五山路381号 | ||