| 发明名称 | 用于抛光低介电材料的抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于抛光低介电材料的抛光液，该抛光液包括磨料和水，其特征在于：还包括一种或多种金属螯合剂、唑类成膜剂和氧化剂。本发明的抛光液能在较低的压力下具有较高的低介电材料的去除速率以及对其它材料的合适的抛光选择比，抛光后的表面光洁度较好。 | ||
| 申请公布号 | CN101490192A | 申请公布日期 | 2009.07.22 |
| 申请号 | CN200780027184.9 | 申请日期 | 2007.07.09 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 宋伟红;陈国栋;荆建芬;姚颖;宋成兵 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | PCT国内申请，权利要求书已公开。 | ||
| 地址 | 中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||