发明名称 |
抛光组合物及使用经胺基矽烷处理之研磨颗粒的方法 |
摘要 |
本发明方法包括用本发明抛光组合物化学-机械抛光基板,该抛光组合物包括液体载剂及经化合物处理之研磨颗粒。 |
申请公布号 |
TW200923038 |
申请公布日期 |
2009.06.01 |
申请号 |
TW097136355 |
申请日期 |
2008.09.22 |
申请人 |
卡博特微电子公司 |
发明人 |
史帝芬 葛伦拜;李守田;威廉 沃德;潘卡 辛;杰佛瑞 戴萨 |
分类号 |
C09G1/02(2006.01);C09K3/14(2006.01);H01L21/304(2006.01) |
主分类号 |
C09G1/02(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 |
主权项 |
|
地址 |
美国 |