| 摘要 |
一种曝光设备，用于半导体领域，包括有一光源组，包含有复数个光源灯泡，及用以支撑该些光源灯泡架设之灯座，该灯座包含有复数个对应该些光源灯泡之灯罩，该些灯罩与该些光源灯泡之间为可调整位置的机构设置，致该些光源灯泡之光线可集中照射出一可调整光源之第一光源；一第一反射镜，用以接受该第一光源，并改变该第一光源之照射角度为第二光源；一复眼装置，用以接受该第二光源，透过该复眼装置，可让光线均匀化，而形成第三光源；一第二反射镜，用以接受该第三光源，并改变该第三光源之照射角度为第四光源；及一凸透镜，用以接受该第四光源，以将光线修正为所需之平行光及面积大小，而投射出所须之曝光光源。藉此，可用以改善传统灯泡寿命偏低及须仰赖使用水冷散热系统之缺失，以减少生产成本。 |
