发明名称 |
用于一半导体集成电路的导电结构及其成形方法 |
摘要 |
一种用于一半导体集成电路的导电结构及其成形方法,该半导体集成电路包含一衬垫以及一保护层,局部覆盖该衬垫,以界定出一开口区域。该导电结构可通过该开口区域,与该衬垫呈电性连接。该导电结构包含一第一导体层、一第二导体层以及一底层,该底层形成于该第一导体层以及该衬垫之间。该第一导体层的横向尺寸大于该第二导体层的横向尺寸,以使该导电结构可符合缩减的脚距规格,同时又可保护该衬垫,以避免被蚀刻。 |
申请公布号 |
CN101409269A |
申请公布日期 |
2009.04.15 |
申请号 |
CN200710162042.5 |
申请日期 |
2007.10.10 |
申请人 |
南茂科技股份有限公司 |
发明人 |
齐中邦 |
分类号 |
H01L23/485(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/485(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
陈 亮 |
主权项 |
1.一种用于一半导体集成电路的导电结构,其中该半导体集成电路包含一衬垫及一保护层,局部覆盖该衬垫,以界定出具有一第一横向尺寸的一开口区域,该导电结构可通过该开口区域,与该衬垫呈电性连接;该导电结构包含:一第一导体层,具有一第二横向尺寸,至少局部形成于该开口区域内;以及一第二导体层,具有一第三横向尺寸,形成于该第一导体层上,与该第一导体层呈电性连接;其中该第二横向尺寸基本上不小于该第一横向尺寸,该第三横向尺寸基本上小于该第二横向尺寸。 |
地址 |
台湾省新竹县新竹科学工业园区宝山乡研发一路一号 |