发明名称 用于一半导体集成电路的导电结构及其成形方法
摘要 一种用于一半导体集成电路的导电结构及其成形方法,该半导体集成电路包含一衬垫以及一保护层,局部覆盖该衬垫,以界定出一开口区域。该导电结构可通过该开口区域,与该衬垫呈电性连接。该导电结构包含一第一导体层、一第二导体层以及一底层,该底层形成于该第一导体层以及该衬垫之间。该第一导体层的横向尺寸大于该第二导体层的横向尺寸,以使该导电结构可符合缩减的脚距规格,同时又可保护该衬垫,以避免被蚀刻。
申请公布号 CN101409269A 申请公布日期 2009.04.15
申请号 CN200710162042.5 申请日期 2007.10.10
申请人 南茂科技股份有限公司 发明人 齐中邦
分类号 H01L23/485(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I 主分类号 H01L23/485(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 陈 亮
主权项 1.一种用于一半导体集成电路的导电结构,其中该半导体集成电路包含一衬垫及一保护层,局部覆盖该衬垫,以界定出具有一第一横向尺寸的一开口区域,该导电结构可通过该开口区域,与该衬垫呈电性连接;该导电结构包含:一第一导体层,具有一第二横向尺寸,至少局部形成于该开口区域内;以及一第二导体层,具有一第三横向尺寸,形成于该第一导体层上,与该第一导体层呈电性连接;其中该第二横向尺寸基本上不小于该第一横向尺寸,该第三横向尺寸基本上小于该第二横向尺寸。
地址 台湾省新竹县新竹科学工业园区宝山乡研发一路一号