发明名称 |
一种SiC衬底LED的欧姆接触电极制备方法 |
摘要 |
本发明提供了一种SiC衬底LED的欧姆接触电极制备方法,在LED的SiC衬底上按常规工艺制作出金属电极(即N电极)后,通过局部激光高温退火,使得整个金属电极上40-60%的面积经过激光高温退火形成欧姆接触。一般用激光退火方法,退火区域呈5-15m宽度间隔的条状带,或者退火区域是一系列点阵点。本发明简单易控制,避免了整个器件浸入高温环境,而是通过局部高温退火形成欧姆接触。既形成了良好的欧姆接触电极,又减小了对器件整体性能的影响。 |
申请公布号 |
CN101908591A |
申请公布日期 |
2010.12.08 |
申请号 |
CN201010206137.4 |
申请日期 |
2010.06.23 |
申请人 |
山东华光光电子有限公司 |
发明人 |
沈燕;徐现刚;徐化勇;王成新;李树强 |
分类号 |
H01L33/36(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/36(2010.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种SiC衬底LED的欧姆接触电极制备方法的,其特征是:在LED的SiC衬底上按常规工艺制作出金属电极后,通过对电极进行部分区域激光退火,使得整个金属电极上只有40 60%的面积经过800 1000℃高温,形成欧姆接触。 |
地址 |
250101 山东省济南市高新区天辰大街1835号 |