| 发明名称 | 光器件及曝光装置 | ||
| 摘要 | 一种能抑制光输出的降低的光器件及曝光装置。本发明的光器件包含出射短波长(例如160～500nm)的激光的激光光源、透镜、透明部件及光纤而构成。还有，按透明部件和光纤的抵接面上的光密度为140[W/mm2]以下的方式构成光器件。这样就能抑制熔化所造成的光输出的降低。 | ||
| 申请公布号 | CN101299088B | 申请公布日期 | 2010.11.10 |
| 申请号 | CN200810094943.X | 申请日期 | 2008.04.30 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 向井厚史;园田慎一郎 |
| 分类号 | G02B6/42(2006.01)I;H01S5/00(2006.01)I;H01S3/00(2006.01)I | 主分类号 | G02B6/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 陆锦华;谢丽娜 |
| 主权项 | 一种光器件，具备：输出给定波长的光的光源；使上述给定波长的光透过的第1光学部件；以及与上述第1光学部件抵接而使上述给定波长的光透过的第2光学部件，其中，上述给定波长是160～500nm，并且上述第1光学部件和上述第2光学部件的抵接面上的光密度是140W/mm2以下。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||