发明名称 |
一种X光管阳极靶及其制备方法与应用的X光管 |
摘要 |
本发明涉及一种X光管阳极靶,其表面具有多个微米尺度锯齿状沟槽,且所述锯齿状沟槽的方向正对X光管的出射口。本发明还对应提出一种新型阳极靶的制备方法及其应用的X光管。本发明的技术方案将X光管中聚焦电子束轰击的靶阳极表面区域制成多锯齿沟槽,可以大大提高X光管中电子束能量的利用效率,增加在出射方向上的X射线光强度。 |
申请公布号 |
CN101465260B |
申请公布日期 |
2010.11.10 |
申请号 |
CN200910076933.8 |
申请日期 |
2009.01.14 |
申请人 |
布莱格科技(北京)有限公司 |
发明人 |
吴应荣 |
分类号 |
H01J35/08(2006.01)I;H01J35/00(2006.01)I;H01J9/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01J35/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
张春和 |
主权项 |
一种X光管阳极靶,其特征在于,所述阳极靶的表面具有多个微米尺度锯齿状沟槽,且所述锯齿状沟槽的方向正对X光管的出射口,所述锯齿状沟槽的锯齿夹角为10-90度,深度为10-60微米。 |
地址 |
100871 北京市海淀区中关村北大街116号北京大学科技园孵化器2号楼2112室 |