发明名称 多处理室型真空处理设备
摘要 即使在真空室已经安装完成之后,仍可根据使用者的需要,改变真空室的形状与尺寸。;真空室1的结构能自由地分割成一矩形内室主体2;三角形侧框架3a,3b,可拆卸地藉由螺栓紧密连结至内室主体之两侧上;顶板5,8,系连结到内室主体2的个别顶面及各具有一开口的侧框架3a,3b上;及底板7与9,系连接到内室主体2的个别底面及具有一开口的侧框架3a,3b上。因此,可以根据使用者的要求而轻易改变真空室的形状与尺寸。
申请公布号 TWI363658 申请公布日期 2012.05.11
申请号 TW096125750 申请日期 2004.05.07
申请人 优贝克科技股份有限公司 日本 发明人 滨田安雄;咲本泰
分类号 B01J3/03;C23C14/56 主分类号 B01J3/03
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本