发明名称 |
微机电装置及其制造方法 |
摘要 |
一种微机电装置及其制造方法,包括提供一半导体基板,其包括半导体层与内连结构。接着,形成一保护层与一光阻层于内连结构之上,并于光阻层内形成露出保护层一部分之复数个开口,且去除为开口所露出之保护层及其下方之内连结构,以形成复数个第一沟槽。部份去除为第一沟槽所露出之半导体层,以于半导体层内形成复数个第二沟槽。以及贴附一上盖基板于保护层以形成复合基板,薄化复合基板内之半导体层,留下经薄化之半导体层。最后部份去除经薄化之半导体层并形成一第三沟槽,以于第一沟槽、第二沟槽与第三沟槽之间之一区域内形成了一悬浮之微加工结构。 |
申请公布号 |
TWI392641 |
申请公布日期 |
2013.04.11 |
申请号 |
TW099101593 |
申请日期 |
2010.01.21 |
申请人 |
立积电子股份有限公司 台北市内湖区堤顶大道2段407巷20弄1号3楼 |
发明人 |
刘慈祥 |
分类号 |
B81C1/00;H01L21/306;B81B7/02 |
主分类号 |
B81C1/00 |
代理机构 |
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代理人 |
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼 |
主权项 |
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地址 |
台北市内湖区堤顶大道2段407巷20弄1号3楼 |