双面溅射蚀刻基板之系统与方法（二）

摘要

本发明提供一种用以蚀刻图案化媒介物碟片之系统。使用一可动电极执行溅射蚀刻。该电极移动至接近或轻微接触该基板之位置，以耦合RF能量至该碟片。所蚀刻之材料可为金属，例如为Co/Pt/Cr或类似金属。该基板以垂直保持在一载具，两侧均可依序蚀刻。换言之，其一面在一腔中蚀刻，其后在另一腔中蚀刻第二面。一隔离阀位于该两腔体之间，而该碟片载具在该腔之间移动该碟片。该载具可为一直线驱动载具，例如为磁化轮及直线马达。