发明名称 铟锡氧化物薄膜的回收方法以及基板的回收方法
摘要 一种铟锡氧化物薄膜的回收方法。首先,提供一待回收物,此待回收物具有一铟锡氧化物薄膜,接着,使一硷液与铟锡氧化物薄膜接触,以使铟锡氧化物薄膜自待回收物剥离并混合于硷液中,其中硷液之成分包括氢氧化钾及/或氢氧化钠。之后,收集剥离的铟锡氧化物薄膜与硷液之混合物,并自铟锡氧化物薄膜与硷液之混合物中过滤而取得含铟之粉末。本发明另提供一种基板的回收方法。
申请公布号 TWI408239 申请公布日期 2013.09.11
申请号 TW099132808 申请日期 2010.09.28
申请人 友达光电股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 发明人 郑钧文;陈豊涵;赖英杰
分类号 C22B58/00;H01L21/306 主分类号 C22B58/00
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号