基板支撑单元以及利用其研磨基板之装置与方法

摘要

本发明揭露一种基板支撑单元以及利用其研磨基板之一种装置与一种方法。在研磨制程中，基板支撑单元真空吸附基板的底面，而在后段清洗制程中，基板支撑单元支撑基板而使基板处于向上间距基板支撑单元的状态以清洗基板。如此，在基板支撑单元以及利用其研磨基板之装置与方法中，当基板处于被单晶圆型基板支撑单元支撑的状态时，基板顶面之研磨制程以及基板顶面与底面之后段清洗制程便可依序进行。