发明名称 基板处理装置、基板处理方法、程式及记忆媒体
摘要 [课题];提供可提升乾燥单元中对基板的乾燥性能的基板处理装置、基板处理方法、程式及记忆媒体。;[解决手段];在基板处理装置(1)的液体处理部(2)中,将基板(W)浸渍在被贮留在洗净槽(6)的洗净液。此外,在乾燥处理部(3)中将在内部形成腔室(5)的腔室壁(60)加热。在将腔室壁(60)加热之后,在腔室(5)内供给流体雾。在腔室(5)内供给流体雾之后,使基板(W)由洗净槽(6)移动至腔室(5)内。接着,在使基板(W)由内侧槽(30)移动至腔室(5)内之间,或在使基板(W)移动之后,在腔室(5)内供给乾燥气体而进行基板(W)之乾燥。
申请公布号 TWI413201 申请公布日期 2013.10.21
申请号 TW098117288 申请日期 2009.05.25
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 中岛干雄;西村英树
分类号 H01L21/67;H01L21/304 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本