曝光装置及元件制造方法

摘要

提供一种能抑制液体残留之曝光装置。本发明之曝光装置，具备：能保持基板移动之基板载台，能与基板载台分开独立移动之测量载台，以及在基板载台及测量载台之至少一载台上面形成液体之液浸区域的液浸机构。在测量载台上面，设有能回收液体之回收口。