HARDMASK COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERNS AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE INCLUDING THE PATTERNS

摘要

(A) 하기 화학식 1로 표현되는 하드마스크 조성물용 모노머, (B) 방향족 고리 함유 중합체, 그리고 (C) 용매를 포함하는 하드마스크 조성물을 제공한다. [화학식 1]상기 화학식 1에서, A, A′, A″, L, L′x, y 및 z의 정의는 명세서에서 정의한 바와 같다. 또한 상기 하드마스크 조성물을 사용한 패턴 형성 방법 및 상기 방법으로 형성된 복수의 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스 또한 제공한다.