曝光装置

摘要

在曝光装置中，设置有射入透过了光源和掩模的曝光用光，并以具有规定的规则性配置的使正立等倍像在基板上成像的多个微透镜的微透镜阵列。进而，在基板到达了规定位置时，从光源脉冲地照射激光，将基板依次曝光，在基板的曝光对象区域的全域被曝光之后，将微透镜阵列与掩模的相对位置关系，仅以微透镜的行间距，在列方向依次切换，进行下一个顺序的曝光。由此，能以短曝光行程进行高精度且高分辨率的曝光。

主权项

一种曝光装置，其特征在于，具有：脉冲地发出激光的光源；形成了应曝光的图案的掩模；微透镜阵列，由使正立等倍像在基板上成像的多个微透镜构成，所述多个微透镜在行方向即第一方向排列并且在列方向即第二方向以规定的行间距设置多行；将来自所述光源的激光通过所述掩模导入所述微透镜阵列的光学系统；使所述基板在所述第二方向移动的驱动装置；将所述微透镜阵列与所述掩模的相对位置关系仅以所述微透镜的所述行间距在所述第二方向依次切换的切换装置；以及将基于所述驱动装置的所述基板的移动、基于所述切换装置的所述微透镜阵列与所述掩模的相对位置关系的切换、以及所述激光的照射定时进行控制的控制装置，所述微透镜阵列是以1次所述激光的照射，将对应于微透镜的数量的多个矩形的区域进行曝光的微透镜阵列，在棋盘格状的位置，在第一方向相互间设置间隔并在第一方向以规定的列间距配置所述矩形的区域，在所述第一方向，隔开1个或多个位置，以规定的列间距将第一行的所述区域的配置位置进行配置，在与所述第一行的区域的所述间隔的位置对应的位置，在所述第一方向，设置所述列间距配置相对所述第一行在第二方向邻接的第二行的所述区域，进一步，在有共用于所述第一行和所述第二行的间隔的位置的情况下在与该位置对应的位置、在没有所述共用的间隔的位置的情况下在与所述第一行的所述区域对应的位置，在所述第一方向，设置所述列间距并配置相对所述第二行在第二方向邻接的第三行的所述区域，以下同样地相对各行，直到没有共用于前段的全部的行的区域之间的间隔为止使所述第一方向的配置位置错开来配置后段的行的区域，在没有共用于全部的行的区域之间的间隔时，就第一方向而言在与第一行相同的配置位置配置所述区域并再一次依次配置多行的所述区域。