发明名称 光照稳定性非晶态金属氧化物TFT器件以及显示器件
摘要 本发明提供了一种光照稳定性非晶态金属氧化物TFT器件,包括衬底、倒栅电极、栅绝缘介质层、由非晶态金属氧化物构成的沟道层、源漏电极、钝化层、穿过钝化层与源漏电极接触的驱动电极,其特征在于:钝化层的顶部还具有能高吸收紫外光的顶栅保护电极。依照本发明的TFT器件,在器件有源区顶部形成高紫外吸收的透明导电材料可以有效过滤环境、主动光源的紫外光对沟道的导电影响,提高器件长期稳定性,同时利用顶栅电极的功耗数差导致的静电势排斥背沟道的导电电荷,削弱背沟道表面损伤、缺陷对器件长期稳定性的影响。与此同时ITO顶栅电极与驱动OLED与LCD的ITO下电极共用一层Mask,无额外附加材料电极与图形化工艺。
申请公布号 CN102969361B 申请公布日期 2015.09.23
申请号 CN201110257633.7 申请日期 2011.09.01
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 殷华湘;王玉光;董立军;陈大鹏
分类号 H01L29/786(2006.01)I;H01L23/552(2006.01)I;H01L29/40(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 H01L29/786(2006.01)I
代理机构 北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙) 11345 代理人 陈红
主权项 一种光照稳定性非晶态金属氧化物TFT器件,包括衬底、倒栅电极、栅绝缘介质层、由非晶态金属氧化物构成的沟道层、源漏电极、钝化层、穿过钝化层与源漏电极接触的驱动电极,其特征在于:钝化层的顶部还具有能高吸收紫外光的顶栅保护电极,顶栅保护电极与源漏电极分离。
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