光学元件的制造方法以及防反射结构体的制作方法

摘要

本发明的目的在于提供一种能够在整个非平坦面均匀且容易地制作防反射结构体的光学元件的制造方法。在具有作为宏观的非平坦面的第一光学面(11d)的光学元件即光学构件阵列(100)的制造方法中，具有：将第一光学面(11d)划分为多个区域并针对划分出的多个区域中的第一区域形成岛状的掩模的第一掩模形成工序；对通过第一掩模形成工序形成有岛状的掩模的第一区域进行蚀刻而在第一区域形成防反射结构体(51)的第一蚀刻工序；在第一蚀刻工序后，针对多个区域中的与第一区域不同的第二区域形成岛状的掩模的第二掩模形成工序；以及对通过第二掩模形成工序形成有岛状的掩模的第二区域进行蚀刻而在第二区域形成防反射结构体(51)的第二蚀刻工序。

主权项

一种光学元件的制造方法，该光学元件具有宏观的非平坦面，所述光学元件的制造方法的特征在于，具有：第一掩模形成工序，在所述第一掩模形成工序中，将所述宏观的非平坦面划分为多个区域，针对划分出的所述多个区域中的第一区域形成岛状的掩模；第一蚀刻工序，在所述第一蚀刻工序中，对通过所述第一掩模形成工序形成有岛状的掩模的所述第一区域进行蚀刻而在所述第一区域形成防反射结构体；第二掩模形成工序，在所述第一蚀刻工序后，在所述第二掩模形成工序中，针对所述多个区域中的与所述第一区域不同的第二区域形成岛状的掩模；以及第二蚀刻工序，在所述第二蚀刻工序中，对通过所述第二掩模形成工序形成有岛状的掩模的所述第二区域进行蚀刻而在所述第二区域形成防反射结构体。