咔唑酚醛清漆树脂

摘要

本发明的课题在于提供用于半导体器件的制造的光刻工序的具有耐热性的抗蚀剂下层膜和电子构件中使用的具有透明性的高折射率膜。本发明提供了一种聚合物，其含有下式(1)所示的结构单元，式(1)式(1)中，R₁、R₂、R₃和R₅分别表示氢原子，R₄表示苯基或萘基。还提供含有上述聚合物的形成抗蚀剂下层膜的组合物，以及由其形成的抗蚀剂下层膜。还提供含有上述聚合物的形成高折射率膜的组合物和由其形成的高折射率膜。

主权项

一种形成抗蚀剂下层膜的组合物，含有包含下式(1)所示的结构单元的聚合物，其中，R₁和R₂分别选自氢原子、卤素基团、硝基、氨基、羟基、碳原子数1～10的烷基、碳原子数2～10的链烯基、碳原子数6～40的芳基和它们的组合，并且，该烷基、该链烯基或该芳基表示可以含有醚键、酮键或酯键的基团，R₃选自氢原子、碳原子数1～10的烷基、碳原子数2～10的链烯基、碳原子数6～40的芳基和它们的组合，并且，该烷基、该链烯基或该芳基表示可以含有醚键、酮键或酯键的基团，R₄表示可以被卤素基团、硝基、氨基或羟基取代的碳原子数6～40的芳基或杂环基，R₅表示氢原子、或者可以被卤素基团、硝基、氨基或羟基取代的、碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～40的芳基或杂环基，并且，R₄与R₅可以与它们所结合的碳原子一起形成环，n1和n2分别表示1～3的整数，所述组合物还含有酸和/或产酸剂。