用于试样的具有发光体的结构的空间高分辨率成像的方法

摘要

一种用于对试样(3)的具有发光体(1)的结构(2)进行空间高分辨率成像的方法，其中，对试样(3)在测量区域(5)中加载荧光激发光(7)，荧光激发光将发光体(1)从可激发的电子基态激发到被激发的发光态。并且对试样(3)在测量区域(5)中加载荧光退激发光(8)的具有局部最小处(9)的强度分布，荧光退激发光将发光体(1)从被激发的发光态带回可激发的电子基态。记录从测量区域(5)发射的荧光(10)并且将其对应于所述局部最小处(9)在试样(3)中的位置。在以荧光激发光(7)加载前，对试样(3)在测量区域(5)中加载激发阻抑光(4)的强度分布，激发阻抑光使发光体(1)从可激发的电子基态转换到保护态，在保护态，发光体(1)被保护以免被荧光激发光(7)和荧光退激发光(8)电子激发。激发阻抑光(4)的强度分布具有局部最小处(6)，其与荧光退激发光(8)的强度分布的局部最小处(9)重叠。

主权项

用于对试样(3)的具有发光体(1)的结构(2)进行空间高分辨率成像的方法，‑其中，对所述试样(3)在测量区域(5)中加载以荧光激发光(7)，所述荧光激发光将所述发光体(1)从可激发的电子基态激发到被激发的发光态；‑其中，对所述试样(3)在测量区域(5)中加载以荧光退激发光(8)的具有局部最小处(9)的强度分布，所述荧光退激发光将所述发光体(1)从所述被激发的发光态带回所述可激发的电子基态；‑其中，记录从所述测量区域(5)所发射的荧光(10)，并且‑其中，将所记录的荧光(10)对应于所述局部最小处(9)在所述试样(3)中的位置，其特征在于，对所述试样(3)在所述测量区域(5)中在以所述荧光激发光(7)加载之前以激发阻抑光(4)的强度分布加载，所述激发阻抑光使所述发光体(1)从所述可激发的电子基态转换到保护态，在该保护态中，所述发光体(1)被保护以免被所述荧光激发光(7)和所述荧光退激发光(8)电子激发，其中，所述激发阻抑光(4)的所述强度分布也具有局部最小处(6)，该局部最小处与所述荧光退激发光(8)的所述强度分布的所述局部最小处(9)重叠。