含钼靶材

摘要

本发明涉及包括50原子%或更多钼、第二金属元素铌或钒，及选自由钛、铬、铌、钒和钽组成的群组的第三金属元素，且其中第三金属元素与第二金属元素不同的溅射靶材，及采用所述溅射靶材制造的沉积膜。在本发明的优选方面，所述溅射靶材包括一富钼相、一富第二金属元素相及一富第三金属元素相。

主权项

一种溅射靶材，包括：i)占所述溅射靶材原子总数40原子％或更高并且小于85原子％的钼；ii)占所述溅射靶材原子总数5原子％或更高的第二金属元素，其中所述第二金属元素选自由铌和钒所组成的群组；及iii)占所述溅射靶材原子总数5原子％或更高的第三金属元素，其中所述第三金属元素选自由钽、铬、钒、铌和钛所组成的群组，且第三金属元素与第二金属元素不同；其中所述溅射靶材包括占所述溅射靶材总体积40体积％或更高的第一相，其中所述第一相包括浓度占第一相中原子总数50原子％或更高的钼；占所述溅射靶材总体积1至40体积％的第二相，其中所述第二相包括浓度占第二相中原子总数50原子％或更高的第二金属元素；及占所述溅射靶材总体积5至40体积％的第三相，其中所述第三相包括浓度占第三相中原子总数50原子％或更高的第三金属元素；因此所述溅射靶材可用于制造含有合金的沉积膜，所述合金包括钼、第二金属元素和第三金属元素。