| 发明名称 | 照光制备八氟[2，2]二聚对二甲苯的方法 | ||
| 摘要 | 本发明的主要目的在于提供一种八氟[2，2]二聚对二甲苯(Parylene，AF4)的制备方法，提供反应物及还原剂，使用照光催化进行反应，缩短反应时间，进而减少副产物生成，并可在高浓度反应混合物下制备高纯度(＞99.0％)的AF4。<img file="DDA0000739162010000011.GIF" wi="697" he="651" /> | ||
| 申请公布号 | CN104876794A | 申请公布日期 | 2015.09.02 |
| 申请号 | CN201510332195.4 | 申请日期 | 2012.08.09 |
| 申请人 | 元欣科技材料股份有限公司 | 发明人 | 林俊旭;孙谦益;鄞永裕;李俊士;周佑军 |
| 分类号 | C07C25/22(2006.01)I;C07C17/269(2006.01)I | 主分类号 | C07C25/22(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 曹玲柱 |
| 主权项 | 一种八氟[2，2]二聚对二甲苯的合成方法，其步骤包括：A，提供一反应物以及一还原剂，其中该反应物为至少一化合物选取自：1，4‑双(氯二氟甲基)苯、1，4‑双(溴二氟甲基)苯以及1，4双(碘二氟甲基)苯所组成的群组，该还原剂为至少一选取自：锌、镍、铅、铝、铜、镁以及锡所组成的群组；B，将该反应物及该还原剂置于一非质子极性溶剂中，形成一混合物；以及C，提供一UV光源并加热该混合物以得到八氟[2，2]二聚对二甲苯。 | ||
| 地址 | 中国台湾台北市 | ||