发明名称 PHOTOACID GENERATING COMPOUND AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME COATED ARTICLE COMPRISING THE PHOTORESIST AND METHOD OF MAKING AN ARTICLE
摘要 <p>하기 식 (I)을 갖는 화합물:여기서, a는 1 내지 10의 정수이고, x는 1 내지 3의 정수이고, X은 플루오로알코올, 불소화된 에스테르 또는 불소화된 무수물을 포함하고, Y는 단일 결합, C알킬렌기, O, S, NR, 에스테르, 카보네이트, 설포네이트, 설폰, 또는 설폰아미드이고, 여기서, R은 H 또는 C알킬이고, 여기서, C알킬렌기는 구조적으로 탄소만이거나, C알킬렌기 중의 하나 이상의 구조적 탄소 원자는 산소, 카보닐, 에스테르 또는 이들중 적어도 하나를 포함하는 조합에 의해 대체되고, Ar은 치환 또는 비치환된 C이상의 모노사이클릭, 폴리사이클릭 또는 융합된 폴리사이클릭 사이클로알킬; 또는 치환 또는 비치환된 C이상의 모노사이클릭, 폴리사이클릭 또는 융합된 폴리사이클릭 아릴기이고, 여기서 사이클로알킬 또는 아릴은 카보사이클이거나, O, S, N, F 또는 이들중 적어도 하나를 포함하는 조합을 포함하는 헤테로원자를 포함하고, 각각의 R은 독립적으로 치환된 C아릴, 치환된 C헤테로아릴, C알킬, C사이클로알킬이고, 여기서, x가 1인 경우, 두 개의 R기는 분리되거나, 또는 C고리 구조를 형성하기 위해 서로 결합되고, Z는 카복실레이트, 설페이트, 설포네이트, 설파메이트 또는 설폰이미드의 음이온이고, 여기서 Y가 단일 결합이면, Z는 설포네이트가 아니다.</p>
申请公布号 KR101549446(B1) 申请公布日期 2015.09.02
申请号 KR20130127289 申请日期 2013.10.24
申请人 发明人
分类号 C07C321/28;C07D333/08;G03F7/004 主分类号 C07C321/28
代理机构 代理人
主权项
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