| 主权项 |
一种用于制造平面显示器(FPD)装置的光罩基底，于透光性基板上制造至少具有半透光性膜之平面显示器装置，其中前述半透光性膜具有调整透过量之功能，前述光罩基底系一种前述半透光性膜经图案化处理而成为光罩后于制造元件之际藉由包含复数个波长之曝光光线而进行曝光处理之光罩用的光罩基底；其特征在于：前述半透光性膜系一种在横跨至少i线至g线的波长带域中将透过率之变动幅度控制于5%以下之范围的膜，于以前述半透光性膜之透过率为纵轴，以波长为横轴之分光透过率线，于i线至g线的波长带域中，与前述分光透过率线之横轴相对之倾斜为向右上方上昇，前述半透光性膜之膜厚为15~250埃。
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