| 发明名称 |
基板处理装置;SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS |
| 摘要 |
于基板处理装置(1)，使排列于周方向之复数大腔室排气埠(281)设置于腔室底部(256)。藉由杯旋转机构(7)使杯部(4)旋转，而使杯排气埠(461)选择性重叠于复数之大腔室排气埠(281)之任一者。在杯排气埠(461)重叠于1个大腔室排气埠(281)的状态下，藉由第1排气机构(95a)，将杯部(4)内之气体排出至腔室(21)外。在杯排气埠(461)重叠于另1个大腔室排气埠(281)的状态下，藉由第2排气机构(95b)，将杯部(4)内之气体排出至腔室(21)外。于基板处理装置(1)，系藉由杯旋转机构(7)使腔室(21)内之杯部(4)旋转，而可容易切换进行来自杯部(4)之排气的排气机构。 |
| 申请公布号 |
TW201533830 |
申请公布日期 |
2015.09.01 |
| 申请号 |
TW104101063 |
申请日期 |
2015.01.13 |
| 申请人 |
斯克林集团公司 SCREEN HOLDINGS CO., LTD. |
发明人 |
中井仁司 NAKAI, HITOSHI |
| 分类号 |
H01L21/67(2006.01);H01L21/30(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
赖经臣宿希成 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 JP |
