真空处理装置

主权项

一种真空处理装置，其系具备：处理室，其供设置处理对象物且可维持真空环境；电子枪，其配置于前述处理室的外壁面，用以射出将前述处理对象物加热之电子束；以及电子束集束机构，其设于前述处理室内，且用以将从前述电子枪射出之前述电子束予以集束；前述电子束集束机构系具有：至少一个集束线圈；感测器，其系测定前述电子束在通过点的温度；真空排气系统，设置于前述电子束集束机构；以及控制部，其系基于前述感测器之测定结果，使用前述真空排气系统来控制前述电子束集束机构内的压力。