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<p>본 발명은, 적어도, 얇은 판자 형상의 워크를 직경방향에 따라 외주측으로부터 지지하는 자전가능한 워크 홀더와, 상기 워크 홀더의 양측에 위치하고, 워크 홀더를 자전의 축방향에 따라 양측에서, 유체의 정압에 의해 비접촉 지지하는 한 쌍의 정압 지지 부재와, 워크 홀더에 의해 지지를 받은 워크의 양면을 동시에 연삭 하는 한 쌍의 숫돌을 구비하는 워크의 양두 연삭 장치에 있어서, 워크 홀더와 정압 지지 부재의 간격이 50 ㎛ 이하이며, 또한 정압 지지 부재가 워크 홀더를 0.3 MPa 이상의 유체의 정압으로 지지하는 것인 워크의 양두 연삭 장치이다. 이에 의해, 워크의 양두 연삭에 있어서, 워크의 나노토포그래피를 악화시키는 요인이 되는, 워크를 외주측으로부터 지지하는 워크 홀더의 자전의 축방향에 따른 위치를 안정화시키는 것이 가능한 워크의 양두 연삭 장치 및 양두 연삭 방법이 제공된다.</p> |
