| 摘要 |
1. Устройство очистки и обеззараживания, содержащее плазменный генератор, в которомплазменный генератор включает в себя:элемент для размещения жидкости, в котором размещается жидкость, включающая в себя, по меньшей мере, воду;элемент для размещения газа, в котором размещается газ;элемент разделительной перегородки, который отделяет элемент для размещения жидкости от элемента для размещения газа и включает в себя газовый канал, позволяющий газу в элементе для размещения газа проходить и попадать в элемент для размещения жидкости;первый электрод, предназначенный для элемента для размещения газа;второй электрод, находящийся на удалении от первого электрода, и по меньшей мере часть которого, находящаяся на стороне, связанной с первым электродом, приходит в контакт с жидкостью в элементе для размещения жидкости;элемент подачи газа, который подает газ, содержащий, по меньшей мере, кислород, в элемент для размещения газа в режиме, когда газ в элементе для размещения газа подается под давлением в элемент для размещения жидкости через газовый канал; иплазменный источник электропитания, подающий заданное напряжение между первым и вторым электродами и создающий разряд между первым и вторым электродами, чтобы превратить в плазму газ, поданный в элемент для размещения газа, в жидкости, находящейся в элементе для размещения жидкости, иплазменный разряд управляется на основе результата обнаружения аномального события, происходящего во время использования плазменного генератора.2. Устройство очистки и обеззараживания по п. 1, в котором его корпус снабжен открывающейся крышкой, и плазменный разряд создается, только ког |
