发明名称 |
一种测量运动台运动精度的测量装置及其测量方法 |
摘要 |
一种测量运动台运动精度的测量装置,包括沿光传播方向依次设置的照明系统、用于放置测试掩模板的掩模台、投影物镜、用于放置测试硅片的工件台、多数测试标记和套刻标记曝光控制结构,多数测试标记呈矩阵分布在测试掩模板,每个测试标记具有同心设置的第一套刻标记和第二套刻标记,套刻标记曝光控制结构设置于测试掩模板和照明系统之间,使得测试掩模板上的第一套刻标记和第二套刻标记经投影物镜依序曝光到测试硅片上形成两层套刻标记图形,依据两层套刻标记图形的套刻误差测算出运动台的运动精度。同时还公开一种测量运动台运动精度的测量方法。该测量装置及测量方法消除了多种测量误差影响因数,可以更加准确测量和评估运动台的运动精度。 |
申请公布号 |
CN102736431B |
申请公布日期 |
2015.08.26 |
申请号 |
CN201110087433.1 |
申请日期 |
2011.04.08 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
孙刚;朱健 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种测量运动台运动精度的测量装置,包括沿光传播方向依次设置的照明系统、用于放置测试掩模板的掩模台、投影物镜以及用于放置测试硅片的工件台,所述运动台包括所述掩模台和工件台,其特征在于,所述测量装置还包括:多数测试标记,所述多数测试标记呈矩阵分布在所述测试掩模板,每个测试标记具有同心设置的第一套刻标记和第二套刻标记;以及套刻标记曝光控制结构,设置于所述测试掩模板和照明系统之间,用于选定所述第一套刻标记和第二套刻标记依序暴露在所述照明系统发出照明光源下,驱动所述掩模台和工件台进行同步扫描曝光,使得所述测试掩模板上的第一套刻标记和第二套刻标记经所述投影物镜依序曝光到所述测试硅片上形成两层套刻标记图形,依据所述两层套刻标记图形的套刻误差测算出所述运动台的运动精度。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张东路1525号 |