发明名称 |
一种使原料受热均匀的反应釜 |
摘要 |
本实用新型公开了一种使原料受热均匀的反应釜,包括有釜体,釜体的顶部和底部设置有与电机连接的转轴,釜体的内部均匀设置有多根电加热管,釜体的内壁上设置有温度传感器,釜体的外壁设置有控制器,电加热管、电机和温度传感器均与控制器连接。本实用新型的釜体可随着转轴转动,带动原料在釜体内翻动,同时电加热管使釜体内的原料受热均匀,保证了反应的质量。 |
申请公布号 |
CN204583207U |
申请公布日期 |
2015.08.26 |
申请号 |
CN201520214766.X |
申请日期 |
2015.04.12 |
申请人 |
千辉药业(安徽)有限责任公司 |
发明人 |
杨会来;孙学喜 |
分类号 |
B01J19/28(2006.01)I |
主分类号 |
B01J19/28(2006.01)I |
代理机构 |
合肥天明专利事务所 34115 |
代理人 |
金凯 |
主权项 |
一种使原料受热均匀的反应釜,包括有釜体,其特征在于:所述的釜体的顶部和底部设置有与电机连接的转轴,釜体的内部均匀设置有多根电加热管,釜体的内壁上设置有温度传感器,釜体的外壁设置有控制器,所述的电加热管、电机和温度传感器均与控制器连接。 |
地址 |
230601 安徽省合肥市经开区民营科技二园青鸾路8号 |