发明名称 | 等离子体处理装置 | ||
摘要 | 本发明提供一种电感耦合型等离子体处理装置,其完美地抑制RF天线内的波长效应,并且能够自如且精细地控制等离子体密度分布。在腔室(10)的顶部或电介质窗(52)上设有用于在腔室(10)内生成电感耦合等离子体的环状的RF天线(54)。该RF天线(54)由在空间上分别形成为半圆的圆弧状且相对于高频供电部(62)电并联连接的两个线圈段(84(1)、84(2))构成。另外,在电介质窗(52)上也设有与RF天线(54)通过电磁感应能够耦合的带有可变电容器(58)的环状浮置线圈(60)。可变电容器(58)在主控制部(80)的控制下,通过容量可变部(82),在一定范围内可任意地变化。 | ||
申请公布号 | CN102737943B | 申请公布日期 | 2015.08.12 |
申请号 | CN201210091871.X | 申请日期 | 2012.03.30 |
申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 山泽阳平 |
分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
主权项 | 一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:具有电介质窗的处理容器;基板保持部,其在所述处理容器内保持被处理基板;处理气体供给部,其向所述处理容器内供给所希望的处理气体,以对所述基板实施所希望的等离子体处理;RF天线,其具有在空间上在所述电介质窗外沿着规定形状和规定尺寸的环串联地配置且电并联地连接的多个线圈段,以在所述处理容器内通过电感耦合而生成处理气体的等离子体;高频供电部,其将适合所述处理气体的高频放电的频率的高频电力供给到所述RF天线;浮置线圈,其被设置为电浮置状态,被配置在与所述RF天线通过电磁感应能够耦合的位置且被配置于所述处理容器外;和电容器,其被设置于所述浮置线圈的环内,在所述多个线圈段之间,各个所述线圈段的高频入口端与另一所述线圈段的高频出口端隔着间隙而邻接,各个所述线圈段的高频出口端与另一所述线圈段的高频入口端隔着间隙而邻接。 | ||
地址 | 日本东京都 |