发明名称 二极体装置及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI496216 申请公布日期 2015.08.11
申请号 TW103100332 申请日期 2014.01.06
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 张胜杰;宋明相;曾仁洲;林文杰;陈柏廷
分类号 H01L21/329;H01L23/60;H01L27/02 主分类号 H01L21/329
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项 一种二极体装置,包括:多个第一连续鳍,具有一平行于一第一方向之纵向,其中该多个第一连续鳍包括一第一导电类型的部分;多个第二连续鳍,具有一平行于一第一方向之纵向,其中该多个第二连续鳍包括一第二导电类型的部分,该第二导电类型与该第一导电类型相反;一隔离区,位于该多个第一连续鳍与该多个第二连续鳍之间;及一井区,位于该隔离区、该多个第一连续鳍及该多个第二连续鳍下,其中该井区为第一导电类型,其中该井区及该多个第一连续鳍形成该二极体的一阴极及一阳极之其一,该多个第二连续鳍形成该阴极及该阳极之另一,其中该二极体被配置以具有一沿着一第二方向流动的电流,该第二方向与该第一方向垂直,该电流于该阳极与该阴极之间流动。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号