发明名称 |
Halbleitervorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
摘要 |
Ein Lötabschnitt (4) und eine Ni-Plattierungsmarkierung (5) werden durch Plattieren auf ein Verdrahtungsmuster (2) eines Isolationssubstrats (1) gleichzeitig ausgebildet. Ein Halbleiterchip (6) wird auf dem Isolationssubstrat (1) montiert. Eine Position des Isolationssubstrats (1) wird durch die Ni-Plattierungsmarkierung (5) erkannt und ein Draht (7) wird an den Halbleiterchip (6) gebondet. Eine Elektrode (8) wird mit dem Lötabschnitt (4) durch Lötmittel (9) verbunden. Das Isolationssubstrat (1), der Halbleiterchip (6), der Draht (7) und die Elektrode (8) werden in einem Einkapselungsmaterial (13) eingekapselt. |
申请公布号 |
DE112012007155(T5) |
申请公布日期 |
2015.08.06 |
申请号 |
DE20121107155T |
申请日期 |
2012.11.21 |
申请人 |
MITSUBISHI ELECTRIC CORP. |
发明人 |
MATSUMOTO, TAKAYUKI;ONISHI, HIROTAKA;KOGA, MASUO |
分类号 |
H01L23/12;H01L21/60;H01L25/07;H01L25/18 |
主分类号 |
H01L23/12 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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