发明名称 SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS
摘要 <p>본 발명은, 회전가능한 척, 제1 매스플로우 제어기, 제2 매스플로우 제어기, 복수의 위치설정 핀, 복수의 안내 필러(guiding pillars) 및 모터를 갖는 기판 지지 장치를 제공한다. 기판을 지지하기 위한 회전가능한 척은 복수의 제1 분사 포트와 제2 분사 포트를 형성한다. 상기 제1 분사 포트는 상기 기판에 가스를 공급하기 위한 제1 가스 통로와 연결하며 베르누이 효과에 의해 상기 기판을 흡인한다. 상기 제2 분사 포트는 상기 기판에 가스를 공급하기 위한 제2 가스 통로와 연결하며 상기 기판을 리프팅한다. 상기 제1 매스플로우 제어기와 상기 제2 매스플로우 제어기는 상기 제1 가스 통로와 상기 제2 가스 통로 상에 각각 설치된다. 상기 복수의 위치설정 핀과 안내 필러는 상기 회전가능한 척의 상부면에 배치되고, 모든 안내 필러는 보유부를 형성하도록 돌출한다. 상기 모터는 상기 회전가능한 척을 회전시키데 이용된다.</p>
申请公布号 KR20150088828(A) 申请公布日期 2015.08.03
申请号 KR20157016200 申请日期 2012.11.27
申请人 ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC. 发明人 WANG HUI;CHEN FUPING;ZHANG HUAIDONG;WANG WENJUN
分类号 H01L21/683;H01L21/687 主分类号 H01L21/683
代理机构 代理人
主权项
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