| 主权项 |
一种乾式蚀刻剂，其特征在于：其系用以蚀刻选自由二氧化矽及氮化矽所组成之群中之至少一种矽材料者，且含有(A)化学式CF3C≡CX(其中，X表示H、F、Cl、Br、I、CH3、CFH2或CF2H)所示之氟化丙炔，及下述气体中之任一种：(B)选自由O2、O3、CO、CO2、COCl2及COF2所组成之群中之至少一种气体；(C)选自由F2、NF3、Cl2、Br2、I2及YFn(式中，Y表示Cl、Br或I；n表示整数，且1≦n≦5)所组成之群中之至少一种气体；(D)选自由CF4、CHF3、C2F6、C2F5H、C2F4H2、C3F8、C3F4H2、C3ClF3H及C4F8所组成之群中之至少一种气体。 |
