电浆处理装置;PLASMA PROCESSING DEVICE

摘要

本发明旨在提供一种电浆处理装置，将对处理容器供给之两种高频波的功率以频率不同的脉冲同时调变的情况，双方匹配器中任一者皆可进行稳定且精确的匹配动作。 此电浆处理装置中，对电浆生成用高频波RF1及离子引进用高频波RF2的功率，以不同频率的第1及第2脉冲PS1、PS2进行调变时，于电浆生成系统的匹配器40，阻抗感测器96A，于低频率的第2脉冲PS2的各周期，在高频波供电线43上计算负载阻抗的平均值（一次移动平均值ma），根据该负载阻抗的平均值，输出负载阻抗测定值。又，匹配控制器94A以可变方式控制匹配电路88A内的电抗元件XH1、XH2的电抗，俾负载阻抗测定值与匹配点（50Ω）一致或近似。