发明名称 深拉深加工性优异的Cu-Ni-Si系铜合金板及其制造方法
摘要 一种Cu-Ni-Si系铜合金板,含有1.0~3.0质量%的Ni,并且含有浓度为Ni的质量%浓度的1/6~1/4的Si,余量为Cu及不可避免的杂质,表面的算术平均粗糙度Ra为0.02~0.2μm,以表面粗糙度平均线为基准时各个峰部值和谷部值的绝对值的标准偏差为0.1μm以下,合金组织中晶粒的纵横尺寸比的平均值为0.4~0.6,当根据EBSD法对测定面积范围内的所有像素的取向进行测定,并将相邻像素之间的取向差为5°以上的边界视为晶界的情况下,GOS的所有晶粒中的平均值为1.2~1.5°,特殊晶界的特殊晶界总长度Lσ相对于晶界的晶界总长度L的比率(Lσ/L)为60~70%,弹性极限值为450~600N/mm<sup>2</sup>,在150℃且1000小时下的焊料耐热剥离性良好,耐疲劳特性的变动少,具有优异的深拉深加工性。
申请公布号 CN103547692B 申请公布日期 2015.07.01
申请号 CN201180071039.7 申请日期 2011.11.28
申请人 三菱伸铜株式会社 发明人 熊谷淳一;阿部良雄;齐藤晃;梅津秀三
分类号 C22C9/06(2006.01)I;C22C9/04(2006.01)I;H01B1/02(2006.01)I;C22F1/00(2006.01)I;C22F1/08(2006.01)I 主分类号 C22C9/06(2006.01)I
代理机构 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人 康泉;王珍仙
主权项 一种Cu‑Ni‑Si系铜合金板,含有1.0~3.0质量%的Ni,并且含有浓度为Ni的质量%浓度的1/6~1/4的Si,余量为Cu及不可避免的杂质,表面的算术平均粗糙度Ra为0.02~0.2μm,以表面粗糙度平均线为基准时各个峰部值和谷部值的绝对值的标准偏差为0.1μm以下,合金组织中晶粒的纵横尺寸比、即晶粒短径/晶粒长径的平均值为0.4~0.6,当根据使用带电子背散射衍射图像系统的扫描电子显微镜的EBSD法对测定面积范围内的所有像素的取向进行测定,并将相邻像素之间的取向差为5°以上的边界视为晶界的情况下,以下式表示的GOS的所有晶粒中的平均值为1.2~1.5°,特殊晶界的特殊晶界总长度Lσ相对于晶界的晶界总长度L的比率、即Lσ/L为60~70%,弹性极限值为450~600N/mm<sup>2</sup>,在150℃且1000小时下的焊料耐热剥离性良好,耐疲劳特性的变动少,具有优异的深拉深加工性,<maths num="0001" id="cmaths0001"><math><![CDATA[<mrow><mi>GOS</mi><mo>=</mo><mfrac><mrow><munderover><mi>&Sigma;</mi><mrow><mi>i</mi><mo>,</mo><mi>j</mi><mo>=</mo><mn>1</mn></mrow><mi>n</mi></munderover><msub><mi>&alpha;</mi><mrow><mi>ij</mi><mrow><mo>(</mo><mi>i</mi><mo>&NotEqual;</mo><mi>j</mi><mo>)</mo></mrow></mrow></msub></mrow><mrow><mi>n</mi><mrow><mo>(</mo><mi>n</mi><mo>-</mo><mn>1</mn><mo>)</mo></mrow></mrow></mfrac><mo>&CenterDot;</mo><mo>&CenterDot;</mo><mo>&CenterDot;</mo><mrow><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>)</mo></mrow></mrow>]]></math><img file="FDA0000677306220000011.GIF" wi="697" he="245" /></maths>在上式中,i、j表示晶粒内的像素号,n表示晶粒内的像素数量,α<sub>ij</sub>表示像素i和j的取向差。
地址 日本东京