发明名称 具有局部区域透明之化学机械抛光垫
摘要
申请公布号 TWI490083 申请公布日期 2015.07.01
申请号 TW100101301 申请日期 2011.01.13
申请人 奈平科技股份有限公司 发明人 亚历森 威廉;黄平;史考特 黛安;法兰索 理查;柯布理奇 罗伯特
分类号 B24B37/24;B24B37/26 主分类号 B24B37/24
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种制作一CMP抛光垫之方法,该方法包括:提供具有一表面贴附至一支撑部件之一非液体、部分固化之热固性聚胺基甲酸酯或聚脲局部区域透明中间材料之一第一总成;将该第一总成定位在一抛光垫制作装置中,其中该非液体、部分固化之热固性聚胺基甲酸酯或聚脲局部区域透明中间材料之该被贴附表面系位于在该抛光垫制作装置中之抛光垫形成区块之抛光表面区块与底部表面区块之间,且其中该第一总成之该支撑部件系容纳于该抛光垫制作装置中,且位于接近该抛光垫制作装置中之该抛光垫形成区块之该抛光表面区块而远离该底部表面区块;将不透明热固性聚胺基甲酸酯或聚脲中间材料引入该抛光垫制作装置中;共同固化该非液体、部分固化之热固性聚胺基甲酸酯或聚脲局部区域透明中间材料与该不透明热固性中间材料,以形成具有一抛光表面及相对于该抛光表面之一背面之一抛光层,该抛光层包含放置于且直接共价键结至不透明抛光区块之一局部区域透明(LAT)区块,该LAT区块整体透明;且在该共固化之后,移除该支撑部件。
地址 美国