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发明名称 标志或铭刻工件之方法
摘要
申请公布号 TWI490126 申请公布日期 2015.07.01
申请号 TW098135864 申请日期 2009.10.23
申请人 特萨股份有限公司 发明人 库斯　艾尼;瑞特　斯温
分类号 B41J2/455 主分类号 B41J2/455
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;王彦评 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种标志或铭刻工件之方法，系以高能辐射标志或铭刻工件(3)，该工件(3)为对辐射波长透明的，且聚合物基质(7)配设在该工件(3)附近，使辐射在撞击该聚合物基质(7)之前，通过该工件(3)，其特征在于，一液膜(15)配设在该聚合物基质(7)与该工件(3)间，与该聚合物基质(7)及该工件(3)接触。
地址 德国
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