发明名称 乾燥基板的装置及方法
摘要
申请公布号 TWI490930 申请公布日期 2015.07.01
申请号 TW097118968 申请日期 2008.05.22
申请人 细美事有限公司 发明人 郑英周;李福奎;黄善奎;裵正龙;龙秀彬
分类号 H01L21/30;H01L21/02 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种用于乾燥基板之方法,其包括:预备阶段,其间在将有机溶剂喷射至旋转基板之顶面的同时,将去离子水喷射至基板之底面以提高所述基板之温度;所述方法利用用于乾燥基板之装置,所述装置包括:支撑单元,其包括基板装载于上面之旋转头;碗状物,其用以容纳所述支撑单元之所述旋转头且提供执行处理过程之空间;上部喷嘴部分,其经组态以将乾燥流体供应至装载于所述旋转头上之所述基板之顶面;下部喷嘴部分,其安装于所述旋转头之顶面处且经组态以将去离子水喷射至所述基板的底面;第一流体供应部分,其经组态以将去离子水供应至所述下部喷嘴部分;以及加热器,其安装于所述第一流体供应部分处且经组态以加热待供应至所述下部喷嘴部分之流体。
地址 南韩