发明名称 支撑结构及使用该支撑结构之离子产生装置
摘要 提供能够减少反射极的绝缘性降低之支撑结构及离子产生装置。离子产生装置(10)具备:电弧腔室(12);反射极(62),其具有设置于电弧腔室内之反射板(64)、及插通于连通电弧腔室(12)内外之贯通孔(60)之反射极延长部(66);以及支撑结构(70),其设置于电弧腔室(12)的外侧,并支撑反射极成得以确保反射极延长部(66)与贯通孔(60)的内壁之间的间隙(60a)。支撑结构(70)具有:盖构件(80),其在电弧腔室(12)的外部划分与间隙(60a)连通之小室(88);以及绝缘构件(72),其将电弧腔室(12)与反射极(62)之间电绝缘。
申请公布号 TW201526067 申请公布日期 2015.07.01
申请号 TW103144507 申请日期 2014.12.19
申请人 斯伊恩股份有限公司 SEN CORPORATION 发明人 佐藤正辉 SATO, MASATERU
分类号 H01J37/04(2006.01);H01J37/20(2006.01) 主分类号 H01J37/04(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本 JP