| 摘要 |
一种等离子体刻蚀装置及其刻蚀方法，等离子体刻蚀装置包括：处理腔室；第一电极，位于处理腔室内，且具有放置晶圆的平台，第一电极与至少一个射频电源电连接；第二电极，位于处理腔室内，且与第一电极正对，第二电极与直流电源电连接，第二电极和直流电源之间具有第一开关；第一气体供应端，向处理腔室中通入第一气体，且与处理腔室之间具有第二开关；第二气体供应端，向处理腔室中通入第二气体，且与处理腔室之间具有第三开关；脉冲控制单元，同步产生分布控制第一开关、第二开关和第三开关的第一脉冲信号、第二脉冲信号和第三脉冲信号。 |
