发明名称 THIN FILM FORMING METHOD AND THIN FILM FORMING APPARATUS
摘要 <p>기판의 표면의, 박막패턴을 형성하는 영역의 가장자리에 대한, 박막재료의 액체방울의 착탄과, 착탄된 박막재료의 경화를 반복함으로써, 박막패턴을 형성하는 영역의 가장자리에, 박막재료로 이루어지는 에지패턴을 형성한다. 에지패턴으로 가장자리가 획정된 내부영역에, 박막재료의 액체방울을 착탄시킨다. 내부영역에 착탄된 박막재료를 경화시킨다. 에지패턴과 내부영역에 착탄된 박막재료로 이루어지는 박막패턴이 형성된다.</p>
申请公布号 KR20150072459(A) 申请公布日期 2015.06.29
申请号 KR20157015597 申请日期 2012.06.12
申请人 SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD. 发明人 ISO KEIJI;OKAMOTO YUJI;ICHIKAWA EIJI
分类号 H05K3/28;H05K3/00 主分类号 H05K3/28
代理机构 代理人
主权项
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