用来抛光相变合金的化学机械抛光组合物和方法

摘要

一种使用化学机械抛光组合物对包含锗-锑-碲硫属化物相变合金(GST)的基片进行化学机械抛光的方法，所述化学机械抛光组合物包含作为初始组分的以下物质：水；磨料；邻苯二甲酸、邻苯二甲酸酐、邻苯二甲酸盐/酯化合物和邻苯二甲酸衍生物中的至少一种；螯合剂；聚(丙烯酸-共-马来酸)；以及氧化剂；所述化学机械抛光组合物促进高GST去除速率，同时获得低缺陷度。

主权项

一种用来对基片进行化学机械抛光的方法，该方法包括:提供基片，所述基片包含锗‑锑‑碲相变合金；提供化学机械抛光组合物，所述化学机械抛光组合物包含以下作为初始组分的物质:水；0.1‑5重量％的磨料；0.001‑5重量％的邻苯二甲酸、邻苯二甲酸酐以及邻苯二甲酸盐/酯化合物中的至少一种；0.001‑5重量％的螯合剂；0.001‑0.1重量％的丙烯酸‑马来酸共聚物；0.001‑3重量％的氧化剂；其中，所述化学机械抛光组合物的pH值为7.1‑12；提供化学机械抛光垫；在化学机械抛光垫和基片的界面处形成动态接触；在所述化学机械抛光垫和基片之间的界面处或界面附近，将所述化学机械抛光组合物分配到所述化学机械抛光垫上；将至少一部分所述锗‑锑‑碲相变合金从所述基片除去。