| 主权项 |
对辐射敏感的基片（17）成像用的方法，其中在应用具有所述基片（17）辐射敏感的波长的相干辐射（2）的情况下在辐射敏感的基片（17）上投影可编程模板（6），其中通过声学‑光学或电光学偏转单元（11）推移具有图像栅格（30）的可编程模板（6）的整个图像，并且在基片(17)上在图像栅格(30)中产生精细的部分栅格( 31 )，其特征在于，该相干辐射（2）借助于光学装置（3）这样地扩张成经扩张的辐射场（4），使得将所述辐射场偏转到该可编程模板（6）上，并照射可编程模板（6）的所有可控制的调制器元件（7），借助于声学‑光学或电光学偏转单元（11）这样地同时进行地推移可编程模板（6）的由激活的调制器元件（7）的大量相干射束产生的整个图像，根据基片（17）的每个要曝光的面，在图像栅格（30）内多次推移可编程模板（6）的整个图像，其中曝光过程在时间上错开地进行，并且其中多次投影在不同的位置处射在基片（17）上，使得在基片（17）上在图像栅格（30）中产生精细的部分栅格（31）,由于激活的调制器元件（7）的衍射，发散的分散线(8)射中在透镜(9)上，所述透镜(9)设置成到所述模板（6）距离对应于其焦距，其中借助所述透镜(9)，发散的分散线(8)转换成平行辐射束(10)，及所述平行辐射束(10)借助于在所述透镜(9)的焦平面中设置的声学‑光学或电光学偏转单元(11)作为一阶辐射束(14)偏转在另一透镜(15)上，所述另一透镜(15)的输入侧的焦平面与所述透镜(9)的上述焦平面(18)重合，并且所述辐射敏感的基片（17）处于所述另一透镜(15)的输出侧的焦平面中，其中借助所述另一透镜(15)，入射的一阶辐射束(14)聚焦在基片（17）上。 |
