发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN AND PROCESS FOR PRODUCING MICROLENS
摘要 <p>내열성, 고해상도, 높은 광취출 효율을 갖는 마이크로 렌즈용 재료를 제공한다.; 방향족 축합환 또는 그 유도체를 갖는 단위구조를 포함하는 알칼리 가용성 폴리머(A)와, 광분해되어 알칼리 가용성기를 발생시키는 유기기를 갖는 화합물(B)을 포함하는 포지티브형 레지스트 조성물이다. 이 포지티브형 레지스트 조성물은, 파장 633nm에서 굴절률 1.6 이상이고, 파장 400 내지 730nm에서 투과율 80% 이상인 도막물성을 갖는다. 포지티브형 레지스트 조성물을 기판 상에 도포하고 건조하고 노광하고, 그리고 현상하는 공정을 포함하는 마이크로 렌즈의 제조 방법이다.</p>
申请公布号 KR20150067384(A) 申请公布日期 2015.06.17
申请号 KR20157013792 申请日期 2008.05.14
申请人 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. 发明人 NEGI TAKAYUKI;SAKAGUCHI TAKAHIRO;KISHIOKA TAKAHIRO
分类号 G03F7/023;G02B3/00;G03F7/00;G03F7/38 主分类号 G03F7/023
代理机构 代理人
主权项
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