用于 OLED 装置之奈米结构;NANOSTRUCTURES FOR OLED DEVICES

摘要

本揭露说明使用奈米结构化层压转印膜之方法，该方法用于以层压技术来制造一具有奈米结构化固体表面的OLED。该等方法包括转印及/或复制一膜、层或涂层，以便直接在光敏性光学耦合层(pOCL)上形成一奈米结构化表面，该光敏性光学耦合层与，例如，一顶部发射主动矩阵OLED(AMOLED)装置内之OLED的发射表面接触。该pOCL层随后被固化以形成一光学耦合层(OCL)以及该奈米结构化膜工具被移除以产生奈米结构化OLED。