发明名称 一种基于PCDL型聚氨酯丙烯酸酯制备的光刻胶组合物
摘要 本发明公开了一种基于PCDL型聚氨酯丙烯酸酯制备的光刻胶组合物,所述组合物的原料及其各原料的质量百分含量为:聚氨酯丙烯酸酯45-60%,活性稀释剂10-15%,颜料4-6%,光引发剂3-5%,溶剂20-37%;在避光条件下,聚氨酯丙烯酸酯与光引发剂、溶剂、活性稀释剂以及颜料按比例混合,室温下磁力搅拌使其充分溶解,即得光致抗蚀剂。本发明组合物中PCDL型聚氨酯丙烯酸酯的玻璃化温度、硬度、较高,酸值可调,分子量较低,粘度小,以该低聚物配制的光致抗蚀剂膜稀碱液可显影,且显影时间短,图像分辨率较高。
申请公布号 CN104698754A 申请公布日期 2015.06.10
申请号 CN201510129329.2 申请日期 2015.03.23
申请人 江南大学 发明人 刘敬成;刘秋华;郑祥飞;刘仁;李虎;刘晓亚
分类号 G03F7/027(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;C08G18/67(2006.01)I;C08G18/66(2006.01)I;C08G18/44(2006.01)I;C08G18/34(2006.01)I 主分类号 G03F7/027(2006.01)I
代理机构 无锡华源专利事务所(普通合伙) 32228 代理人 冯智文
主权项 一种基于PCDL型聚氨酯丙烯酸酯制备的光刻胶组合物,其特征在于所述组合物的原料及其各原料的质量百分含量为:<img file="FDA0000686412090000011.GIF" wi="1079" he="463" />所述聚氨酯丙烯酸酯为自己合成,其酸值为25‑70mgKOH/g,重均分子量为7000‑9500,双键当量为700‑1200g/mol;在避光条件下,聚氨酯丙烯酸酯与光引发剂、溶剂、活性稀释剂以及颜料按比例混合,室温下磁力搅拌使其充分溶解,即得光致抗蚀剂;将制成的光致抗蚀剂使用旋涂机涂覆在铜片上,75‑85℃条件下预烘30‑40分钟;在50‑300mJ/cm<sup>2</sup>曝光,然后在质量分数为0.5%的Na<sub>2</sub>CO<sub>3</sub>溶液中显影,显影时间40‑60s。
地址 214122 江苏省无锡市滨湖区蠡湖大道1800号
您可能感兴趣的专利