发明名称 用于界面聚合工艺及膜片性能测试的装置及其运行方法
摘要 本发明提供一种用于界面聚合工艺及膜片性能测试的装置,包括膜制备和测试装置以及与该装置连接的流体循环系统;流体循环系统用于在膜制备时向膜制备及测试装置分别注入水相溶液及油相反应溶液,在膜性能测试时向膜制备和测试装置中注入纯水或截留测试溶液;所述膜制备及测试装置包括上底板、下底板以及用于安置膜片的支撑模块;本发明装置具有集界面聚合工艺制备技术与膜片性能测试一体化的功能,操作简便、拆卸轻松、清洗方便,既能实现高效界面聚合工艺,又可以轻松实现所制膜的性能测试,大大提高采用界面聚合工艺制膜与性能测试的效率,且造型美观,实用方便,也适用于膜分离技术的研究及应用。
申请公布号 CN104689721A 申请公布日期 2015.06.10
申请号 CN201510080070.7 申请日期 2015.02.12
申请人 广州中国科学院先进技术研究所 发明人 王建明;宋宏臣;罗倩仪;王汉斌
分类号 B01D67/00(2006.01)I;B01D65/10(2006.01)I 主分类号 B01D67/00(2006.01)I
代理机构 广州番禺容大专利代理事务所(普通合伙) 44326 代理人 刘新年
主权项 一种用于界面聚合工艺及膜片性能测试的装置,其特征在于,包括膜制备和测试装置以及与该装置连接的流体循环系统;所述流体循环系统包括储液槽和注液管路;所述注液管路包括进液泵,以及分别与进液泵的出水管路相连接的水相溶液输入管路和流体输入管路;水相溶液输入管路上设有水相溶液入口阀,流体输入管路上设有流体入口阀和压力表;所述膜制备及测试装置包括上底板、下底板以及用于安置膜片的支撑模块;所述上底板的下侧中空,中空部位内壁设置有上层圆级凹槽和下层圆级凹槽,所述下层圆级凹槽的两侧分别设有产水出口和水相溶液入口;所述下底板内部设有中空凹槽,还设有与中空凹槽连通的流体入口和流体出口,所述流体出口低于中空凹槽平面;所述上底板与下底板相固定时,通过上底板与下底板的中空结构配合形成一个容置空间,支撑模块设置于容置空间内部并固定在所述上层圆级凹槽内;所述水相溶液输入管路连接水相溶液入口,所述流体输入管路连接流体入口,所述产水出口接有产水出口阀,流体出口接有流体出口阀。
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